想要更小的芯片吗？试试用粒子加速器（Particle Accelerator）
芯片制造持续挑战物理极限，光学光刻是关键技术。`ASML`公司使用极紫外光（`EUV`）进行纳米级蚀刻。目前，有研究人员探索利用粒子加速器产生更强大的`EUV`光束，通过加速电子接近光速来提升芯片制造能力。
[插图：Alberto Miranda]
2025年3月12日
半导体芯片是人类能够制造的最小、最精密的物体之一。缩小芯片尺寸并提高其复杂性，是在与物理极限作斗争，而光学光刻——用短波长光在硅片上蚀刻纳米级图案——是这场斗争中最前沿的阵地。荷兰公司 ASML 构建了这样的光刻工具，它采用了一种近乎科幻的方式，即在真空中用激光轰击熔融的锡滴，以产生波长仅为 13.5 纳米的极紫外 (EUV) 光。现在，一些研究人员希望使用粒子加速器来产生更强大的 EUV 光束，该加速器将电子加速到接近光速。